Použitie technológie plazmového nanášania katódovým oblúkom. Plazmové nanášanie katódovým oblúkom je relatívne nová technológia nanášania tenkých vrstiev, ktorá je v mnohých smeroch podobná iónovému pokovovaniu. Jeho výhody: vysoká rýchlosť ionizácie v toku emitovaných častíc a tieto ionizované ióny majú vysokú kinetickú energiu (40-100eV).
Mnohé z výhod nanášania iónovým lúčom, ako je zlepšená adhézia, zvýšená hustota stavov a vysoká reaktivita na tvorbu zloženého filmu, sa všetky odrážajú v plazmovom nanášaní katódovým oblúkom. Plazmové nanášanie katódovým oblúkom má svoje vlastné jedinečné výhody, ako je schopnosť nanášať na substráty zložitejšieho tvaru s vysokou rýchlosťou nanášania, dobrou rovnomernosťou povlaku, nízkou teplotou substrátu a jednoduchou prípravou zlúčenín alebo zliatin s ideálnymi chemickými pomermi. .
Katódový materiál sa v dôsledku vysokej prúdovej hustoty odparuje procesom odparovania a výsledné odparovanie sa skladá z elektrónov, iónov, centrálnych atómov plynnej fázy a častíc. V bode katódového oblúka sa materiál takmer okamžite ionizuje. Ióny sú emitované v smere takmer kolmom na povrch katódy. Keď vysokoenergetické ióny chrómu zasiahnu dusík, okamžite prejdú chemickou reakciou a stanú sa plynnými. Molekuly nitridu chrómu.
